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RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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用　　途：

　　RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。　　具體包括：　　◆ 介電材料（SiO2、SiNx 等）　　◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）　　◆III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）　　◆ 濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）　　◆ 類金剛石（DLC）　　應(yīng)用領(lǐng)域：　　RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。　　產(chǎn)品特點(diǎn) 　　◆7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。　　◆PLC 工控機(jī)控制整個(gè)清洗過程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。　　◆真空艙體、全真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。　　◆采用防腐數(shù)字流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)?、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。　　RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 　　http://www.plasmacleaning.cn/Products-38022965.html

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