主要技術(shù)指標(biāo):真空度優(yōu)于1*10-10torr
功能/應(yīng)用范圍:超高真空生長(zhǎng)磁性金屬超薄膜以及復(fù)雜氧化物薄膜
技術(shù)特色:能夠生長(zhǎng)各種臺(tái)階樣品以及楔形樣品,樣品厚度誤差可以控制在原子層級(jí)的尺度
主要測(cè)試和研究領(lǐng)域:電子/信息技術(shù)
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